AR-XPS modeling of SiNx ultrathin layers grown on Si(100)by N2 plasma treatment. - Université Clermont Auvergne Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

AR-XPS modeling of SiNx ultrathin layers grown on Si(100)by N2 plasma treatment.

H. Beji
G. Monier
  • Fonction : Auteur
L. Bideux
P. Hoggan
  • Fonction : Auteur
C. Robert-Goumet
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04066079 , version 1 (12-04-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04066079 , version 1

Citer

H. Beji, G. Monier, L. Bideux, P. Hoggan, A. Bousquet, et al.. AR-XPS modeling of SiNx ultrathin layers grown on Si(100)by N2 plasma treatment.. European Conference on Surface Science, ECOSS 35, Aug 2022, Luxembourg, Luxembourg. ⟨hal-04066079⟩
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