Modélisation par AR-XPS de couches ultra-fines SiNx élaborées sur Si(100), Si(111) par traitement plasma N2. - Université Clermont Auvergne Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Modélisation par AR-XPS de couches ultra-fines SiNx élaborées sur Si(100), Si(111) par traitement plasma N2.

H. Beji
G. Monier
  • Fonction : Auteur
L. Bideux
P. Hoggan
  • Fonction : Auteur
C. Robert-Goumet
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04067521 , version 1 (13-04-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04067521 , version 1

Citer

H. Beji, G. Monier, L. Bideux, P. Hoggan, A. Bousquet, et al.. Modélisation par AR-XPS de couches ultra-fines SiNx élaborées sur Si(100), Si(111) par traitement plasma N2.. Journées Nationales de Spectroscopies de Photoémission, May 2022, Dijon (FRA), France. ⟨hal-04067521⟩
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