Reactive gas pulsing sputtering process, a promising technique to elaborate silicon oxynitride multilayer nanometric antireflective coatings - Université Clermont Auvergne Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2017

Reactive gas pulsing sputtering process, a promising technique to elaborate silicon oxynitride multilayer nanometric antireflective coatings

Résumé

Structural and ellipsometric study on tailored optical properties of tantalum oxynitride films deposited by reactive sputtering Angélique Bousquet, Fadi Zoubian, Joël Cellier et al.
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Bousquet2016_JPhysD_revised.pdf (814.65 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-04287139 , version 1 (21-11-2023)

Identifiants

Citer

A Farhaoui, A Bousquet, Rafik Smaali, A Moreau, E Centeno, et al.. Reactive gas pulsing sputtering process, a promising technique to elaborate silicon oxynitride multilayer nanometric antireflective coatings. Journal of Physics D: Applied Physics, 2017, 50, ⟨10.1088/1361-6463/50/1/015306⟩. ⟨hal-04287139⟩
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